Zirconium Oxide (ZrO2) Sputtering Target

Við framleiðum og útvegum alhliða keramiksputteringsmarkmið og samsett skotmark, þar á meðal oxíð sputtering targets, carbide sputtering targets, flúor sputtering targets, súlfíð sputtering targets og svo framvegis. Framleiðslutækni keramiksputtering markmiða er heitpressa. Frá vali á hráefnum til stjórnunar á hitastigi, þrýstingi og tíma heitpressunar sintunar, fylgjum við nákvæmlega sérstöku framleiðsluferlinu, þannig að fullunna keramiksputtering markmiðin hafa einkenni mikillar hreinleika, mikillar þéttleika, einsleitan yfirborðslit án bletta og sprunga, getur endanlegur notandi fengið stöðugt veðrunarhraða og mikla hreina og einsleita þunna filmu meðan á PVD ferli stendur.

Sirkonoxíð sputtering Target;

Hreinleiki: 99,99%;

Framleiðsluaðferð: heitpressun sintun, lofttæmi hitauppstreymi úða;

Hringlaga skotmark: Þvermál<= 14 inch, Thickness >= 3 mm;

Ferhyrnt skotmark: Lengd<= 14 inch, Width <= 10 inch, Thickness >= 3 mm;

Lágmarks pöntunarmagn: 1 stykki;

Tegund bindingar: Indíum, teygjanlegt;

maq per Qat: sirkonoxíð (zro2) sputtering target, Kína sirconium oxíð (zro2) sputtering target birgjar, verksmiðja