Lithium Nniobat (LiNbO3) Sputtering Target

Verksmiðjan okkar getur framleitt og útvegað allt úrval af keramiksputtering markmiðum og samsettum markmiðum, þar á meðal oxíð sputtering markmiðum, karbíð sputtering markmiðum, flúor sputtering markmiðum, súlfíð sputtering markmiðum og svo framvegis. Framleiðslutækni keramiksputtering markmiða er heitpressa. Frá vali á hráefnum til stjórnunar á hitastigi, þrýstingi og tíma heitpressunar sintunar, fylgjum við nákvæmlega sérstöku framleiðsluferlinu, þannig að fullunna keramiksputtering markmiðin hafa einkenni mikillar hreinleika, mikillar þéttleika, einsleitan yfirborðslit án bletta og sprunga, getur endanlegur notandi fengið stöðugt veðrunarhraða og mikla hreina og einsleita þunna filmu meðan á PVD ferli stendur.

Lithium Nniobat Sputtering Target;

Hreinleiki: 99,95%, 99,99%;

Framleiðsluaðferð: heitpressun sintun, lofttæmi hitauppstreymi úða;

Tiltækar stærðir:

Hringlaga skotmark: Þvermál<= 14 inch, Thickness >= 3 mm;

Ferhyrnt skotmark: Lengd<= 14 inch, Width <= 10 inch, Thickness >= 3 mm;

Snúningsmarkmið: L 4000 x Veggþykkt 15mm

Lágmarks pöntunarmagn: 1 stykki;

Tegund bindingar: Indíum, teygjanlegt;

maq per Qat: lithium nniobate (linbo3) sputtering target, Kína lithium nniobate (linbo3) sputtering target birgjar, verksmiðja