PVD húðunarefni
-
![4N ZrO2 sputtering Target með Cu bakplötu]()
4N ZrO2 sputtering Target með Cu bakplötuSirkoníumdíoxíð sputtering skotmörkin okkar með bakplötum eru framleidd með há-hreinleika sirkondíoxíðefni, tryggilega tengt við málmbakplötu; þessi hönnun tryggir hraða hitaleiðni og...choghIjtaHghach -
![ZrC sputtering Target með Cu bakplötu]()
ZrC sputtering Target með Cu bakplötuZirconium Carbide (ZrC) sputtering markmiðin okkar með kopar bakplötum eru með sterka tengingu á milli há-hreinleika ZrC markefnisins og kopar bakhliðarinnar. Þessi hönnun tryggir framúrskarandi...choghIjtaHghach -
![Ta 5at% Doped ZrC sputtering Target]()
Ta 5at% Doped ZrC sputtering TargetNákvæm lyfjanotkun sirkonkarbíðs með 5 atómprósenta hlutfalli tantals eykur verulega háan-hitaþol markefnisins, hitalostþol og tæringarþol. Það státar af miklum hreinleika og einsleitum þéttleika...choghIjtaHghach -
![4N IGZO sputtering Target]()
4N IGZO sputtering Target4N IGZO sputteringsmarkmiðin okkar skila stöðugri og skilvirkari sputteringsafköstum. Þeir eru sérhæfðir fyrir háþróaða-skjá- og hálfleiðaraforrit og auðvelda framkvæmd betri rafeindahreyfanleika...choghIjtaHghach -
![4N HfO2 skotmark með Cu bakplötu]()
4N HfO2 skotmark með Cu bakplötu4N HfO₂ sputtering Target með koparbaki notar 99,99% hreint hafníum oxíð efni. Innbyggt með koparbaki, það býður upp á framúrskarandi hitaleiðni og hentar vel fyrir sjónhúð, hálfleiðaraframleiðslu...choghIjtaHghach -
![4N HfO2 dópað með 2% Ti-markmiði]()
4N HfO2 dópað með 2% Ti-markmiði2% Ti-dópað HfO₂ sputtering markið er framleitt með því að nota há-hreinleika hafníumoxíð hvarfefni, nákvæmlega dópað með 2% títaníum. Einkennist af einsleitni í samsetningu og miklum þéttleika,...choghIjtaHghach -
![4N HfO2 sputtering Target]()
4N HfO2 sputtering Target4N High-Hreinleiki Hafnium Dioxide Sputtering Target (99,99% Purity)—hentugt fyrir notkun í ljóshúð, hálfleiðara og nákvæmni rafeindatækni. Er með háan þéttleika, einsleita samsetningu og stöðugan...choghIjtaHghach -
![Sérhannaðar 4N kolefnisspúttunarmarkmið]()
Sérhannaðar 4N kolefnisspúttunarmarkmiðHár-hreinar 4N kolefnissputtermiðin okkar eru framleidd úr 99,99% hreinu kolefnisefni, með lágu óhreinindum og gera þau tilvalin fyrir notkun í hálfleiðurum, ljósþunnum filmum og húðun fyrir...choghIjtaHghach -
![B4C sputtering Target]()
B4C sputtering TargetÞessi vara notar há-bórkarbíðhráefni, hefur einstaka hörku og öflugan hitastöðugleika, sem gerir hana tilvalin fyrir notkun í hálfleiðaraframleiðslu, ljóshúð og framleiðslu á slitþolnum filmum....choghIjtaHghach -
![Sérsniðin bórsputtering markmið]()
Sérsniðin bórsputtering markmiðVið bjóðum upp á há-hreinan, þéttan bórmarkmið sem henta fullkomlega fyrir hálfleiðara og húðunarferli. Við styðjum sérsniðna framleiðslu byggða á tækniteikningum, stýrum ströngu magni óhreininda...choghIjtaHghach -
![Sérsniðið 3N5 Round Tungsten Target]()
Sérsniðið 3N5 Round Tungsten TargetVið bjóðum upp á sérsniðin-hringlaga wolfram skotmörk með 3N5 hreinleika (99,95%). Þeir eru framleiddir með duftmálmvinnslu, þeir eru með einsleita örbyggingu, mikinn þéttleika og eru laus við...choghIjtaHghach -
![Sérsniðið High Purity Hf sputtering Target]()
Sérsniðið High Purity Hf sputtering TargetVið bjóðum upp á sérsniðin-hátt-hafníum-sputtermarks með hreinleika sem er yfir 99,9%, með einsleitri þéttleika og fínni örbyggingu. Sérstaklega hönnuð fyrir hálfleiðaraflís, sjónhúðun og...choghIjtaHghach
Við erum fagmenn birgjar pvd húðunarefnis í Kína, sem sérhæfa sig í að veita hágæða sérsniðna þjónustu. Við fögnum þér hjartanlega til að kaupa afsláttarpvd húðunarefni á lager hér og fá ókeypis sýnishorn frá verksmiðjunni okkar. Fyrir verðráðgjöf, hafðu samband við okkur.