Metal Supttering Targets
-
![Sérhannaðar 4N kolefnisspúttunarmarkmið]()
Sérhannaðar 4N kolefnisspúttunarmarkmiðHár-hreinar 4N kolefnissputtermiðin okkar eru framleidd úr 99,99% hreinu kolefnisefni, með lágu óhreinindum og gera þau tilvalin fyrir notkun í hálfleiðurum, ljósþunnum filmum og húðun fyrir...choghIjtaHghach -
![Sérsniðin bórsputtering markmið]()
Sérsniðin bórsputtering markmiðVið bjóðum upp á há-hreinan, þéttan bórmarkmið sem henta fullkomlega fyrir hálfleiðara og húðunarferli. Við styðjum sérsniðna framleiðslu byggða á tækniteikningum, stýrum ströngu magni óhreininda...choghIjtaHghach -
![Sérsniðið 3N5 Round Tungsten Target]()
Sérsniðið 3N5 Round Tungsten TargetVið bjóðum upp á sérsniðin-hringlaga wolfram skotmörk með 3N5 hreinleika (99,95%). Þeir eru framleiddir með duftmálmvinnslu, þeir eru með einsleita örbyggingu, mikinn þéttleika og eru laus við...choghIjtaHghach -
![Sérsniðið High Purity Hf sputtering Target]()
Sérsniðið High Purity Hf sputtering TargetVið bjóðum upp á sérsniðin-hátt-hafníum-sputtermarks með hreinleika sem er yfir 99,9%, með einsleitri þéttleika og fínni örbyggingu. Sérstaklega hönnuð fyrir hálfleiðaraflís, sjónhúðun og...choghIjtaHghach -
![Sérsniðin 3N5 Hafnium stöng]()
Sérsniðin 3N5 Hafnium stöng3N5 há-hafníumstangir, 99,95% hreinleiki, kjarna-gæði! Þolir ofur-háum hita og sterkri tæringu, fyrsti kosturinn fyrir kjarnaofna, flugvélar og hálfleiðara skotmörk.choghIjtaHghach -
![Sérsniðið 3N Tin Target]()
Sérsniðið 3N Tin TargetHár-hreinleiki 3N tini sputtering mark + sérsniðin kopar bakplata tvöfaldar sputtering skilvirkni! Óaðfinnanlegur tenging kemur í veg fyrir losun, sem leiðir til einsleitar, -lausra...choghIjtaHghach -
![Sérhannaðar 3N5 rétthyrnd Hafnium skotmark]()
Sérhannaðar 3N5 rétthyrnd Hafnium skotmark3N5 há-hafníummarkmið, 99,95% hreinleiki, sérsniðnar rétthyrndar stærðir nákvæmar í míkrómetra! Fyrsti kosturinn fyrir hálfleiðarahúðun og ljóshúð, sem framleiðir þétta, -agnalausa filmu með...choghIjtaHghach -
![4N Mg magnesíum sputtering Target]()
4N Mg magnesíum sputtering Target4N magnesíum sputtering markmið eru há-málm sputtering efni með hreinleika sem er meira en eða jafnt og 99,99%. Þau eru með fínkornum og einsleitri samsetningu, sem gerir þau hentug fyrir...choghIjtaHghach -
![99,95% Hf Hafnium sputtering Target]()
99,95% Hf Hafnium sputtering Target99,95% há-hafníum sputtering skotmark, loftrýmis-gráða Hf málmmarkmið, sérsniðin stærð, bundin kopar bakplata, notuð fyrir hálfleiðara þunnt filmur, sjónhúðun, herhúðun, styður lítil lotusýni, hár...choghIjtaHghach -
![Target sirconium tube]()
Target sirconium tubeSirkon slöngur eru þunn-veggaðar, há-hreinar sirkon rör sem eru tæringar-þolnar og háan-hitaþolinn, sem mynda þétta, einsleita filmu við sputtering. Þeir eru mikið notaðir við framleiðslu á...choghIjtaHghach -
![Beryllium sputtering Target]()
Beryllium sputtering TargetBeryllium er stálgrár málmur sem er frekar brothættur við stofuhita og efnafræðilegir eiginleikar þess líkjast nokkuð áli.choghIjtaHghach -
![Króm (Cr) sputtering Target]()
Króm (Cr) sputtering TargetKróm sputtering target hefur sömu eiginleika og málm króm (Cr), Króm er frumefni með táknið Cr og lotunúmer 24, það er stálgrár, gljáandi, harður og brothættur umbreytingarmálmur. Króm er einnig...choghIjtaHghach
Við erum fagmenn í málmvörpum sem miða að birgjum í Kína, sem sérhæfa sig í að veita hágæða sérsniðna þjónustu. Við fögnum þér hjartanlega til að kaupa afsláttarmiða úr málmi á lager hér og fá ókeypis sýnishorn frá verksmiðjunni okkar. Fyrir verðráðgjöf, hafðu samband við okkur.