Lýsing á 4N HfO2 sputtering Target
Hafníumdíoxíðmarkefni er hagnýtt efni sem samanstendur af há-hreinleika hafníumdíoxíði (HfO₂), aðallega notað í þunnt-filmuútfellingarferlum eins og líkamlegri gufuútfellingu (PVD) og segulómsputting. Kjarnaeiginleikar þess eru meðal annars hátt bræðslumark, framúrskarandi efnafræðilegur stöðugleiki, betri rafeinangrunareiginleikar og sjón gegnsæi innan tiltekinna bylgjulengda. Mikill hreinleiki er grundvallaratriði til að tryggja einsleitni niðurfelldra kvikmynda, sjónræna frammistöðu þeirra og áreiðanleika tækisins, þar sem óhreinindi geta leitt til galla í filmu. Stöðugleiki gæði markefnisins er í beinu samhengi við endurgerðanleika útfellingarferlisins og afrakstur lokaafurðarinnar. Með stöðugri framþróun í hálfleiðurum, ljóseindatækni og háþróaðri framleiðslutækni eykst eftirspurnin eftir há-afníumdíoxíðmarkmiðum jafnt og þétt, sem býður upp á víðtækar markaðshorfur.
Notkun 4N HfO2 sputtering Target
Hálfleiðaraframleiðsla: Sem efni með mikilli-rafmagns-stöðu (há-k) er það notað við framleiðslu háþróaðra smárahliða einangrunarbúnaðar, sem stuðlar að aukinni afköstum tækisins og smæðingu.
Ljósrafræn tæki: Vegna einstakra ljóseiginleika-eins og hás brotstuðuls og lágs frásogstaps-er það mikið notað í sjónhúðun til að framleiða and-endurskinslaga, ljóssíur, leysihluta og há-ljósmyndir.
Sérstakt keramik og húðun: Með því að nýta mikla hörku og slitþol, þjónar það við framleiðslu á háþróuðum keramikefnum sem og hlífðarhúð sem þolir háan hita og tæringu.
Landamærarannsóknir: Á nýjum sviðum eins og skammtafræði, sýnir hafníumdíoxíð möguleika á notkun sem raforkuefni fyrir qubits.
Upplýsingar um 4N HfO2 sputtering Target
Hreinleiki: 99,9%, 99,99%;
Framleiðsluaðferð: heitpressun sintun
Tiltækar stærðir:
Hringlaga: Þvermál minna en eða jafnt og 14 tommur, þykkt meiri en eða jafnt og 3 mm;
Rétthyrnd: Lengd Minna en eða jafnt og 14 tommur, Breidd Minna en eða jafnt og 10 tommur, Þykkt meiri en eða jafnt og 3 mm.
Tegund skuldabréfs: Indíum
Gæðaeftirlit og prófun á 4N HfO2 sputtering Target
Algengar spurningar fyrir 4N HfO2 sputtering Target
Ert þú a verksmiðju eða aframleiðanda?
A: Já, við erum 4N HfO2 sputtering Target verksmiðja, en við notum almennt viðskiptafyrirtækið okkar til að sjá um viðskipti erlendis. Það verður þægilegra að taka á móti greiðslunni og raða sendingunni.
Hver er afhendingaraðferðin?
A: Almennt sendum við 4N HfO2 sputtering Target með UPS, DHL eða FedEx. Einnig getum við sent sjóleiðina til sjávarhafnar eða með flugi til næsta flugvallar.
Hvers vegna er 4N HfO2 sputtering Target þitt svona -hagkvæmt?
A: Við slökktum á milliliðum á endanum-til-að binda enda á framleiðsluferli og við fáum hráefni beint frá uppruna þess.
Gerir þú staðgæðaskoðun ávörur?
A: 100% full skoðun fyrir víst. Öllum óhæfum 4N HfO2 sputtering markmiðum er hent.
Hvernig tryggir þú leiðtíma þinn?
A: Frá efnisgerð til vinnslu og að lokum til fullrar skoðunar. Sérhvert framleiðslustig er strangt eftirlit og stjórnað til að gefa þér nákvæman afhendingartíma.
Hver er MOQ 4N HfO2 sputtering Target?
A: Fer eftir magni 4N HfO2 sputtering Target; almennt engin MOQ takmörk.
Hvernig á að borga fyrirvörurnar?
A: Bankamillifærsla (T/T) verður ásættanleg.
Hver er afhendingartíminn?
A: Um það bil 7-20 dagar, sem fer eftir magni og framleiðslu 4N HfO2 sputtering Target.
Hvers konar pakki er það?
A: Almennt notum við öskjuhylki eða krossviðarhylki með hlífðarefni inni til að tryggja öryggi 4N HfO2 sputtering Target.
Hver er afgreiðslutími?
A: Frá því að pöntun er lögð til farms móttöku mun taka um 10-25 dagar.
maq per Qat: 4n hfo2 sputtering target, Kína 4n hfo2 sputtering target birgjar, verksmiðja
