Hár hreinleiki 99,95% Wolfram sputtering Target

Sputtering er ný tegund af Physical Vapor Deposition (PVD) aðferð. Sputtering er mikið notað í: flatskjáum, gleriðnaði (þar með talið byggingargler, bílagler, sjónfilmugler), sólarsellur, yfirborðsverkfræði, upptökumiðla, örraeindatækni, bílaljós og skreytingarhúð osfrv.

(1) Slétt yfirborð án svitahola, rispa og annarra ófullkomleika

(2) Slípandi eða rennibekkur, engin skurðarmerki

(3) Ósigrandi lerel af efnishreinleika

(4) Mikil sveigjanleiki

(5) Einsleit örsmíði

(6) Lasermerking fyrir sérstaka hlutinn þinn með nafni, vörumerki, hreinleikastærð og svo framvegis

(7) Sérhver stykki af sputtering markmiðum úr duftefnishlut og númeri, blöndunarstarfsmönnum, útgasi og HIP tíma, vinnslumanneskju og pökkunarupplýsingum er allt gert sjálf.

1. Mikilvæg leið til að búa til þunnfilmuefni er sputtering-ný leið til líkamlegrar gufuútfellingar (PVD). Þunn filma sem gerð er af skotmarki einkennist af mikilli þéttleika og góðri viðloðun. Þar sem segulómsputtertæknin er víða beitt er mikil þörf á háhreinum málm- og málmblöndur. Að vera með hátt bræðslumark, mýkt, lágan varmaþenslustuðul, viðnám og fínan hitastöðugleika, eru hrein wolfram og wolfram álfelgur mikið notaðar í hálfleiðurum samþættri hringrás, tvívíddar skjá, sólarljósavirkjun, röntgenrör og yfirborðsverkfræði.

2. Það getur unnið með bæði eldri sputtering devises sem og nýjustu vinnslu búnaði, svo sem stór svæði húðun fyrir sólarorku eða eldsneyti frumur og flip-chip forrit.

maq per Qat: hár hreinleiki 99,95% wolfram sputtering target, Kína hár hreinleiki 99,95% wolfram sputtering target birgjar, verksmiðja