Al-Ti álfelgismarkmið
Sputtering Target vísar til hráefnisins sem notað er í sputtering útfellingarferlinu. Það vísar til þess ferlis þar sem atómum er kastað frá föstu markmiði vegna mikillar orku agna sprengjuárásar á markinu. Meginhlutverk þess er að setja þunna filmu á hlutinn.
Al-Ti álfelgismarkmið er oft gert með framleiðslu á lofttegundum. Það hefur röð af framúrskarandi eiginleikum títan og sirkon, svo sem mikilli hörku, háhitaþol, mikinn vélrænan styrk, góða lífeðlisfræði, framúrskarandi tæringarþol, sterka bogahrifþol og mala, varanlegt osfrv.
Al-Ti álfelgismarkmiðið er hægt að nota mikið í tómarúmhúðunartækni með því að nota PVD og CVD sem aðalferla. Það getur húðað rafrænar vörur, rafeindatæki, varin skjátæki og samþætta hringrásartæki til að bæta útsýnisgæði og þjónustulíf. Það er einnig hægt að nota til að húðvinnsluverkfæri, mót og gler til að mæta þörfum alþjóðlegrar framleiðsluiðnaðar fyrir afkastamikil verkfæri og orkusparandi og umhverfisvænt gler.
Sérstök al-Ti álfelgismarkmið
|
Efni |
Ti -75 al, ti -70 al, ti -67 al, ti -60 al, ti -50 al, ti -30 al, ti -20 al |
|
Hreinleiki |
Meiri en eða jafnt og 99,7% |
|
Þvermál |
Sérsniðin |
|
Þykkt |
Sérsniðin |
|
Þéttleiki |
3. 1-4. 3G\/CM3 |
|
Yfirborð |
Polished, björt, efnafræðileg hreinsun, svartoxíð osfrv. |
|
Lögun |
Umferð |
|
Skila tíma |
25 dagar |
|
Standard |
ASTM |
Mynd af Al-Ti álfelgismarkmiðinu


maq per Qat: Al-Ti Alloy Sputtering Target, Kína al-Ti ál




