PVD húðunarefni
-
![Kopar nikkel (CuNi) sputtering Target]()
Kopar nikkel (CuNi) sputtering TargetKopar og nikkel liggja saman í lotukerfinu frumefna, með lotunúmer 29 og 28 og atómþyngd 63,54 og 68,71. Þessir tveir þættir eru náskyldir og eru algjörlega blandanlegir bæði í fljótandi og föstu...choghIjtaHghach -
![Kopar Nikkel Títan (CuNiTi) Sputtering Target]()
Kopar Nikkel Títan (CuNiTi) Sputtering TargetKopar nikkel títan (CuNiTi) álfelgur er ljósgult og lögunin er yfirleitt rétthyrnd. Við getum líka sérsniðið það í samræmi við teikningar og miðaupplýsingar sem viðskiptavinir veita. Kopar-nikkel...choghIjtaHghach -
![Iron Chromium (FeCr) sputtering Target]()
Iron Chromium (FeCr) sputtering TargetSputteringsmarkmiðið úr járnkróm (FeCr) er grásvart á litinn. Við framleiðum járn króm álfelgur sputtering miða með mismunandi járn og króm innihald með lofttæmi framkalla bræðsluaðferð. Í iðnaði...choghIjtaHghach -
![Áltítan (AlTi) sputtering Target]()
Áltítan (AlTi) sputtering TargetSputtering Targets úr áli títan (AlTi) eru framleidd með HIP tækni, mikið notuð til að húða tól og skreytingar. Samanborið við bræðslutækni, hafa TiAl markmið sem framleidd eru með HIP tækni...choghIjtaHghach -
![Járn Mangan (FeMn) sputtering Target]()
Járn Mangan (FeMn) sputtering TargetSputteringsmarkmiðið fyrir járnmangan (FeMn) er dökkbrúnn litur og er samsett úr blöndu af járni og manganefnum. Óhreinindi þess eru aðallega kolefni, sílikon og önnur frumefni. Samkvæmt...choghIjtaHghach -
![Nikkel Chromium (NiCr) sputtering Target]()
Nikkel Chromium (NiCr) sputtering TargetNikkel króm (NiCr) sputtering Target eru notuð til að setja nikkel króm ál viðnámsfilmu með PVD tækni, nikkel króm filman hefur mikla viðnám, lágan hita viðnámsstuðul, hár næmni stuðull og lágt...choghIjtaHghach -
![Nikkel Kopar (NiCu) sputtering Target]()
Nikkel Kopar (NiCu) sputtering TargetUndirbúningsferlið fyrir nikkel kopar álfelgur er að bræða málmhráefnin í álfelgur og mynda síðan hleifarnar á plast í gegnum mótunarferlið til að mæta nauðsynlegri lögun og stærð viðskiptavina.choghIjtaHghach -
![Nikkeljárn (NiFe) sputtering Target]()
Nikkeljárn (NiFe) sputtering TargetBræðslumark nikkel-járns NiFe er 1430-1480 gráður og eðlismassi er á milli 8.1-8.7g/cm3. Nikkel-járnblendi er lágtíðni mjúkt segulmagnaðir efni með lágt þvingunargetu og mikla segulgegndræpi í...choghIjtaHghach -
![Nikkel Vanadíum (NiV) sputtering Target]()
Nikkel Vanadíum (NiV) sputtering TargetHáhreint nikkel-vanadín álmarkmið hefur silfurhvítan málmgljáa, þéttleiki: 6,11g/cm3, bræðslumark er 1910 gráður, suðumark er 3407 gráður. Það er ein mikilvægasta þunnfilmu sputtering málmblöndur...choghIjtaHghach -
![Kóbalt króm (CoCr) sputtering Target]()
Kóbalt króm (CoCr) sputtering TargetKóbalt króm (CoCr) álfelgur er silfurhvítur litur, sem er ál með kóbalt og króm sem aðalefni. Síðan 1929 hefur það verið notað sem tannviðgerðarefni og tæringarþol þess og vélrænni eiginleikar eru...choghIjtaHghach -
![Kóbaltjárn (CoFe) sputtering Target]()
Kóbaltjárn (CoFe) sputtering TargetFerrocobalt álfelgur sem inniheldur um 50% kóbalt er mjúkt segulmagnaðir efni. Til að bæta vinnsluafköst er 1,4 ~ 1,8% vanadíum (V) venjulega bætt við, svo það er einnig kallað Fe-Co-V mjúk...choghIjtaHghach -
![Cobalt Iron Boron (CoFeB) sputtering Target]()
Cobalt Iron Boron (CoFeB) sputtering TargetTilkoma þunnfilmu CoFeB hefur knúið áfram rannsóknir og iðnaðarnotkun á undanförnum áratugum, þar sem segulmagnaðir handahófsaðgangsminni (MRAM) er mest áberandi dæmið. Vegna gagnlegra eiginleika...choghIjtaHghach
Við erum fagmenn birgjar pvd húðunarefnis í Kína, sem sérhæfa sig í að veita hágæða sérsniðna þjónustu. Við fögnum þér hjartanlega til að kaupa afsláttarpvd húðunarefni á lager hér og fá ókeypis sýnishorn frá verksmiðjunni okkar. Fyrir verðráðgjöf, hafðu samband við okkur.